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266nm

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266nm薄膜

发布时间：2024-06-26

浏览量：532

产品简介：薄膜特性：R＜0.1%@248nm；损伤阈值：>1.2J/cm2@248nm, 1ns应用场景：光刻机、KrF激光器等

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薄膜特性：R＜0.1%@248nm；

损伤阈值：>1.2J/cm2@248nm, 1ns

应用场景：光刻机、KrF激光器等

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基板特性：K9，390mm×390mm×8mm反射面形：PV< 2λ（λ=632.8nm）损伤阈值：> 28J/cm2 @1064nm，3ns应用场景：用于神光3装置，公认的高难度镀膜。是自适应系统最核心的光学元件。对光谱、面型和阈值都有极其苛刻的要求。

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