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266nm

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266nm薄膜

发布时间：2024-06-26

浏览量：370

产品简介：薄膜特性：R＜0.1%@248nm；损伤阈值：>1.2J/cm2@248nm, 1ns应用场景：光刻机、KrF激光器等

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详细信息

薄膜特性：R＜0.1%@248nm；

损伤阈值：>1.2J/cm2@248nm, 1ns

应用场景：光刻机、KrF激光器等

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: TFP典型参数

薄膜特性：56°入射， Tp > 98%，Rs > 99.7% @1064nm面形特性：Φ50.8mm×8mm ，透射PV<λ/10，反射PV<λ/8（λ=632.8nm）损伤阈值：S 光> 35J/cm2 ， P 光> 18J/cm2 @1064nm，3ns应用场景：人造太阳、神光项目镜片；激光器

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: 2-12μm 滤光片

常应用于HgCdTe（碲镉汞）材料制备的探测器，其敏感波段覆盖2~12um。典型参数如下：基板：Ge、单晶硅等光谱特性： Tave >93%@2-12μm

: 266nm薄膜

薄膜特性：R＜0.1%@248nm；损伤阈值：>1.2J/cm2@248nm, 1ns应用场景：光刻机、KrF激光器等

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